노광장비 국산화 | 중국이 만든 건 DUV이지 EUV가 아닙니다
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중국이 2026년 7월 자체 생산에 들어간 것은 침지형 DUV 노광장비입니다. EUV가 아닙니다. 두 장비는 빛의 파장부터 다릅니다. DUV는 193nm, EUV는 13.5nm를 씁니다. 가격도 침지형 DUV가 약 9000만 달러, EUV가 2억 달러를 넘습니다. 올해 생산 목표는 5대이고, ASML은 지난해 같은 종류를 130대 넘게 출하했습니다.
왜 지금 이 이야기가 나오나
보도 하나가 시장을 흔들었기 때문입니다. 2026년 7월 27일 미국 기술 매체 디인포메이션이 중국의 자체 노광장비 생산 소식을 전했고, 이튿날 로이터가 제조 주체를 상하이 아이성나 전자기술그룹으로 특정했습니다. 국영기업입니다.
파장이 컸던 이유는 노광장비가 반도체 장비 중 가장 대체하기 어려운 품목이기 때문입니다. 웨이퍼에 회로 패턴을 빛으로 그리는 설비이고, 첨단 공정용은 네덜란드 ASML 한 곳만 만듭니다.
다만 보도 내용과 시장의 해석 사이에 간격이 있습니다. 이 글은 무엇이 확인됐고 무엇이 확인되지 않았는지를 나눠 정리합니다.
DUV와 EUV는 무엇이 다른가
같은 노광장비라는 이름을 쓰지만 만들 수 있는 회로의 굵기가 다릅니다.
| 구분 | DUV (침지형) | EUV |
|---|---|---|
| 빛의 파장 | 193nm | 13.5nm |
| 해상도 높이는 법 | 렌즈와 웨이퍼 사이에 물을 채움 | 파장 자체가 짧음 |
| 대당 가격 | 약 9,000만 달러 | 2억 달러 초과 |
| 주요 용도 | 자동차·가전·의료기기용 반도체 | 최첨단 미세 공정 |
| 중국 도입 | 2023년부터 네덜란드가 일부 수출 허가 대상 지정 | 공급 차단 |
기준: 2026년 8월 10일 · 로이터·블룸버그 보도 종합
침지형 DUV는 EUV로 가는 중간 단계로 여겨집니다. 파장을 더 짧게 만드는 대신 물의 굴절을 이용해 해상도를 끌어올리는 방식입니다. 기술적으로 어려운 장비인 것은 맞지만 EUV와는 다른 물건입니다.
중국은 그동안 EUV를 아예 살 수 없었고, DUV마저 2023년부터 네덜란드가 일부 첨단 모델을 수출 허가 대상에 올리면서 조달이 막혔습니다. 이번 자체 생산은 그 봉쇄에 대한 대응입니다.
중국이 만든 것의 실체는 무엇인가
확인된 것과 확인되지 않은 것을 나눠 봐야 합니다.
| 구분 | 내용 |
|---|---|
| 확인됨 | 상하이 아이성나 전자기술그룹이 양산 주도 · 올해 5대, 2027년 20대 목표 · SMIC·화훙반도체·CXMT에 우선 인도 · SMIC가 지난해 9월부터 실증 테스트 |
| 확인 안 됨 | 제조기업 실명과 모델명 · 개구수(NA) · 해상도 · 오버레이 정밀도 · 시간당 웨이퍼 처리량 · 가동률 · 수율 · 고객사 검증 결과 |
기준: 2026년 8월 10일 · 공개 보도 기준
아래 칸이 이 사안의 핵심입니다. 산업용 노광장비의 성능은 이 지표들로 판정하는데 하나도 공개되지 않았습니다. 만들었다는 사실과 쓸 만하다는 사실은 다른 이야기입니다.
규모도 봐야 합니다. 올해 5대가 목표인데 ASML은 지난해 액침형 DUV만 130대 넘게 출하했습니다. 26분의 1 수준입니다. 월가 투자은행들이 당장 수급 지형이 바뀌기는 어렵다고 본 근거가 이것입니다.
인력 구성은 눈여겨볼 대목입니다. 아이성나는 지난해 시제품 테스트를 시작한 유량성과 SMEE의 팀을 흡수했습니다. 유량성은 화웨이 지원을 받는 사이캐리어의 계열사입니다. 흩어져 있던 개발 인력을 국영기업 아래로 모은 구조입니다.
ASML 독점은 왜 20년간 유지됐나
장비 한 대가 부품 수만 개의 집합이기 때문입니다. 광원과 렌즈, 정밀 제어 장치가 각각 다른 나라의 전문 기업에서 나오고, ASML은 그것을 통합하는 위치에 있습니다. 설계도를 확보해도 공급망 전체를 다시 짜야 합니다.
더 어려운 것은 축적된 데이터입니다. 노광장비는 만들어 놓는 것으로 끝나지 않고 고객사 생산 라인에서 수율을 맞춰 가며 개선됩니다. ASML은 20년 넘게 그 과정을 반복했고, 후발 주자는 그 시간을 건너뛸 수 없습니다.
같은 구조를 소재 쪽에서도 봤습니다. 포토레지스트는 일본 기업이 60년 가까이 쌓은 공정 데이터 때문에 상위 등급 국산화가 막혀 있습니다. 자세한 경위는 포토레지스트 국산화 편에 정리했습니다.
그래서 중국의 이번 생산을 두고 평가가 갈립니다. 자국 라인에 국산 장비를 넣어 수율 데이터를 쌓기 시작했다는 점에서 자립의 교두보라는 시각이 있고, 성능 지표가 공개되지 않았고 규모도 작아 독점 균열을 말하기는 이르다는 시각이 있습니다.
한국에는 무엇이 걸려 있나
같은 장비를 사는 처지라는 점이 먼저입니다. 삼성전자와 SK하이닉스도 ASML에서 노광장비를 받습니다. 앞서 확인한 대로 ASML은 2027년 생산 물량 계약을 사실상 마쳤고, 장비 부족은 한국 기업에도 같은 조건으로 작용합니다.
다른 한 축은 경쟁입니다. 중국이 DUV로 만들 수 있는 반도체는 자동차와 가전, 의료기기용입니다. 최첨단 공정은 아니지만 물량이 큰 시장이고, 중국이 이 영역을 자국 장비로 채우기 시작하면 해당 제품군의 가격 경쟁이 달라집니다.
한국의 장비 국산화율은 낮은 편입니다. 웨이퍼 절단기는 100%, 도가니는 99%가 일본 수입입니다. 노광장비는 아예 국내 생산 자체가 없습니다. 품목별 의존 구조는 한국 공급망 급소 편에 정리했습니다.
확인할 지표는 셋입니다. 중국산 장비의 실제 성능 지표가 공개되는지, 2027년 20대 목표가 지켜지는지, 그리고 SMIC 등 고객사에서 수율 데이터가 나오는지입니다. 이 셋이 나오기 전까지는 판단을 유보하는 편이 안전합니다.
자주 묻는 질문
중국이 EUV 장비를 만든 것입니까
아닙니다. 이번에 생산에 들어간 것은 침지형 DUV 노광장비입니다. 2026년 8월 기준 중국의 EUV 양산은 확인되지 않았습니다.
DUV와 EUV의 차이는 무엇입니까
사용하는 빛의 파장이 다릅니다. DUV는 193nm, EUV는 13.5nm입니다. 파장이 짧을수록 더 미세한 회로를 그릴 수 있어 EUV가 최첨단 공정에 쓰입니다.
침지형이 무슨 뜻입니까
렌즈와 웨이퍼 사이를 물로 채워 빛의 굴절을 이용해 해상도를 높인 방식입니다. 일반 DUV보다 미세한 패턴을 그릴 수 있습니다.
ASML 독점이 깨진 것입니까
단정하기 이릅니다. 올해 목표가 5대인데 ASML은 지난해 같은 종류를 130대 넘게 출하했습니다. 성능 지표도 공개되지 않아 실제 경쟁력을 판단할 자료가 없습니다.
한국은 노광장비를 만들 수 있습니까
국내에서 첨단 노광장비를 생산하는 기업은 없습니다. 삼성전자와 SK하이닉스도 ASML에서 장비를 공급받습니다.
정리
이번 사안을 한 문장으로 줄이면, 만들었다는 것과 쓸 만하다는 것은 다릅니다. 중국이 침지형 DUV 자체 생산에 들어간 것은 사실이고 봉쇄 아래에서 의미 있는 진전입니다. 다만 성능 지표가 하나도 공개되지 않았고 올해 목표는 5대입니다.
그리고 EUV는 여전히 다른 이야기입니다. 파장도 가격도 두 배 이상 차이 나고 중국의 양산은 확인되지 않았습니다. 이 사안은 진행 중이며 성능 지표와 수율 데이터가 나오면 평가가 달라질 수 있습니다.
이 글은 2026년 8월 10일 기준으로 확인한 내용입니다.
참고: 로이터 · 블룸버그 · 디인포메이션 · 톰스하드웨어 · 국내 보도 종합
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